当前位置:首页 > 杂谈 > 正文内容

合肥晶合集成电路申请半导体薄膜蚀刻方法及装置专利,提高产品质量和产能

2025-04-10 09:36:25杂谈199

金融界于2023年4月2日报道,据国家知识产权局公开的信息显示,合肥晶合集成电路股份有限公司近期申请了一项名为“半导体薄膜的蚀刻方法及蚀刻装置”的专利,公开号为CN 119742252 A,申请日期为不久前。 中详细介绍了该蚀刻方法及装置的工作原理,该方法属于半导体技术领域,主要包括以下几个步骤:收集多个被蚀刻的半导体薄膜的厚度均匀性数据和磁体的位置数据;分析这些数据之间的关系;在半导体薄膜进行蚀刻时,系统会监控被蚀刻区域的薄膜厚度均匀性数据,一旦这些数据超出预设的阈值,系统就会根据之前分析的数据关系,自动调整磁体的位置,这一发明显著提高了半导体薄膜蚀刻的效率和产品质量。

天眼查资料显示,合肥晶合集成电路股份有限公司自2015年在合肥市成立以来,主要从事计算机、通信和其他电子设备制造业,该公司拥有雄厚的注册资本,实缴资本也相当可观,通过天眼查大数据分析,合肥晶合集成电路股份有限公司不仅投资了多家企业,还参与了大量的招投标项目,展现了其在行业内的活跃度和实力,公司在财产线索方面拥有大量的商标信息和专利信息,还拥有16个行政许可。